Файл:Лазерно-плазменное осаждение.jpg
Материал из ЭНЭ
Размер при предпросмотре: 800 × 600 пикселей. Другое разрешение: 2592 × 1944 пикселей.
Исходный файл (2592 × 1944 пикселя, размер файла: 1,53 МБ, MIME-тип: image/jpeg)
Высоковакуумная установка для выращивания тонких полупроводниковых пленок и многослойных наноструктур (квантовые ямы, сверхрешетки)методом лазерно-плазменного осаждения.
|
Я, автор этой работы, разрешаю использовать данную работу в любых целях при условии ссылки на источник, за исключением случаев, предусмотренных законодательством. |
История файла
Нажмите на дату/время, чтобы просмотреть, как тогда выглядел файл.
| Дата/время | Миниатюра | Размеры | Участник | Примечание | |
|---|---|---|---|---|---|
| текущий | 15:57, 21 мая 2009 | | 2592 × 1944 (1,53 МБ) | Lotin (обсуждение | вклад) | {{ЭНЭ-self}} Категория:Лазерные технологии |
- Вы не можете перезаписать этот файл.
Использование файла
Нет страниц, ссылающихся на данный файл.
