Лаборатория наноструктур и тонких пленок

Лаборатория наноструктур и тонких пленок

В ИПЛИТ РАН разработаны модификации метода импульсного лазерно-плазменного осаждения тонких пленок металлов, полупроводников и диэлектриков, которые обеспечивают высокое совершенство кристаллической структуры и стабильность параметров получаемых пленок и наноструктур.

схема экпериментальной уставки

Реализованы технологии лазерно-плазменного осаждения:

• пленок из сложных веществ для оптоэлектроники, в частности, светоизлучающих структур УФ диапазона на базе ZnO (p-n переходы, квантовые ямы, нанострежни и точки)
• квантово-размерных структур в спинронике (спин-туннельные наноструктуры на базе многослойных тонких пленок ферромагнетиков, полупроводников и диэлектриков,а также формирование ферромагнитных нанокластеров в наноразмерных пленках полупроводниковых матриц)
• высокопроводящих прозрачных покрытий для солнечных элементов

процесс лазерно-плазменного напыления

Вид_экспериментальной_установки_ЛПН