Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии
Материал из ЭНЭ
Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии
Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии разработки ИПЛИТ РАН предназначены для обеспечения работы установок ЛС-100/250/400, а также для использования в аналогичных системах, использующих технологию лазерной стереолитографии для создания 3D объектов.
| Параметры | Композиция НИЦТЛ-1 | Композиция ИПЛИТ-1 | |
|---|---|---|---|
| Плотность, г/см³ | 1.21 | 1.15 | |
| Вязкость, сП | 260 | 540 | |
| Dp, мм [1] | 0.16 | 0.19 | |
| Ec, мДж/см² [1] | 4.2 | 4.1 | |
| Усадка, об.% | 14 | 7 | |
| Отвержденные образцы | |||
| Ударная вязкость, кДж/см² | 6.3 | 2.6 2.2 [2] | |
| Предел прочности, кГ/см² | 280 | 890 290 [2] | |
| Твердость Нв, МПа | 162 | 140 110 [2] | |
В настоящее время используются следующие фотополимеризующиеся композиции:
- композиция ИПЛИТ-3 на основе олигоэфиракрилатов
- композиция ИПЛИТ-4 на основе уретан-метакрилатов
| Параметры | ИПЛИТ-3 |
ИПЛИТ-4 |
|---|---|---|
| Физико-механические свойства после отверждения при комнатной температуре | ||
| σи, МПа — предел прочности при статическом изгибе | 35.0 | 44 |
| Eи, ГПа — модуль упругости при статическом изгибе | 0.8 | 1.8 |
| σ+, МПа — предел прочности при растяжении | 23 | 18 |
| E+, ГПа — модуль упругости при растяжении | 1.1 | 2.4 |
| Параметры отверждения (для 325 нм) | ||
| Ec, мДж/см2 [1] | 3.7 | 2[3] |
| Dp, мм [1] | 0.15 | 0.12 |
- ↑ 1,0 1,1 1,2 1,3 Параметры уравнения, связывающего толщину отвержденного слоя h с экспозиционной дозой Е: h = Dpln(E/Ec).
- ↑ 2,0 2,1 2,2 Образец подвергали кипячению в воде в течение 1 часа.
- ↑ для рисования подпорок используется алгоритм многократного повторения
