Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии

Материал из ЭНЭ
(перенаправлено с «PhotoCompositions for laser stereolithography»)
Перейти к: навигация, поиск

Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии

Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии разработки ИПЛИТ РАН предназначены для обеспечения работы установок ЛС-100/250/400, а также для использования в аналогичных системах, использующих технологию лазерной стереолитографии для создания 3D объектов.

Параметры Композиция НИЦТЛ-1 Композиция ИПЛИТ-1
Плотность, г/см³ 1.21 1.15
Вязкость, сП 260 540
Dp, мм [1] 0.16 0.19
Ec, мДж/см² [1] 4.2 4.1
Усадка, об.% 14 7
Отвержденные образцы
Ударная вязкость, кДж/см² 6.3 2.6
2.2 [2]
Предел прочности, кГ/см² 280 890
290 [2]
Твердость Нв, МПа 162 140
110 [2]

В настоящее время используются следующие фотополимеризующиеся композиции:

  • композиция ИПЛИТ-3 на основе олигоэфиракрилатов
  • композиция ИПЛИТ-4 на основе уретан-метакрилатов
Параметры ИПЛИТ-3
ИПЛИТ-4
Физико-механические свойства после отверждения при комнатной температуре
σи, МПа  — предел прочности при статическом изгибе 35.0 44
Eи, ГПа — модуль упругости при статическом изгибе 0.8 1.8
σ+, МПа — предел прочности при растяжении 23 18
E+, ГПа — модуль упругости при растяжении 1.1 2.4
Параметры отверждения (для 325 нм)
Ec, мДж/см2 [1] 3.7 2[3]
Dp, мм [1] 0.15 0.12
  1. 1,0 1,1 1,2 1,3 Параметры уравнения, связывающего толщину отвержденного слоя h с экспозиционной дозой Е: h = Dpln(E/Ec).
  2. 2,0 2,1 2,2 Образец подвергали кипячению в воде в течение 1 часа.
  3. для рисования подпорок используется алгоритм многократного повторения

Ссылки