Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии — различия между версиями
Материал из ЭНЭ
EvgBot (обсуждение | вклад) м |
EvgBot (обсуждение | вклад) м |
||
| Строка 7: | Строка 7: | ||
!Композиция НИЦТЛ-1 | !Композиция НИЦТЛ-1 | ||
!Композиция ИПЛИТ-1 | !Композиция ИПЛИТ-1 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
| − | |Плотность,г/ | + | |Плотность, г/см³ |
|align=center|1.21 | |align=center|1.21 | ||
|align=center|1.15 | |align=center|1.15 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
| − | |Вязкость,сП | + | |Вязкость, сП |
| align=center|260 | | align=center|260 | ||
| align=center|540 | | align=center|540 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
|D<sub>p</sub>, мм <ref name="r1">Параметры уравнения, связывающего толщину отвержденного слоя h с экспозиционной дозой Е: h = D<sub>p</sub>ln(E/E<sub>c</sub>).</ref> | |D<sub>p</sub>, мм <ref name="r1">Параметры уравнения, связывающего толщину отвержденного слоя h с экспозиционной дозой Е: h = D<sub>p</sub>ln(E/E<sub>c</sub>).</ref> | ||
|align=center|0.16 | |align=center|0.16 | ||
|align=center|0.19 | |align=center|0.19 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
| − | |Ec, мДж/ | + | |Ec, мДж/см² <ref name="r1" /> |
|align=center|4.2 | |align=center|4.2 | ||
|align=center|4.1 | |align=center|4.1 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
| − | |Усадка,об.% | + | |Усадка, об.% |
|align=center|14 | |align=center|14 | ||
|align=center|7 | |align=center|7 | ||
| − | |||
|- | |- | ||
!colSpan="4"|Отвержденные образцы | !colSpan="4"|Отвержденные образцы | ||
|- | |- | ||
| − | |Ударная вязкость, кДж/ | + | |Ударная вязкость, кДж/см² |
|align=center|6.3 | |align=center|6.3 | ||
| − | |align=center|2.6<br>2.2 <ref name="ref2">Образец подвергали кипячению в воде в течение 1 часа.</ref> | + | |align=center|2.6<br />2.2 <ref name="ref2">Образец подвергали кипячению в воде в течение 1 часа.</ref> |
| − | + | ||
|- | |- | ||
| − | |Предел прочности, кГ/ | + | |Предел прочности, кГ/см² |
|align=center|280 | |align=center|280 | ||
| − | |align=center|890<br>290 <ref name="ref2" /> | + | |align=center|890<br />290 <ref name="ref2" /> |
| − | + | ||
|- | |- | ||
| − | |Твердость Нв, МПа | + | |Твердость Нв, МПа |
|align=center|162 | |align=center|162 | ||
| − | |align=center|140<br>110 <ref name="ref2" /> | + | |align=center|140<br />110 <ref name="ref2" /> |
| − | + | ||
|} | |} | ||
| − | |||
| − | + | В настоящее время используются следующие фотополимеризующиеся композиции: | |
| + | * композиция ИПЛИТ-3 на основе олигоэфиракрилатов | ||
| + | * композиция ИПЛИТ-4 на основе уретан-метакрилатов | ||
{| border =1 align=center cellpadding="4" class="TablePager" | {| border =1 align=center cellpadding="4" class="TablePager" | ||
| − | |+''' | + | |+''' ''' |
|- | |- | ||
| − | | σ<sub>и</sub>, МПа | + | !Параметры |
| + | !ИПЛИТ-3 <br /> | ||
| + | !ИПЛИТ-4 <br /> | ||
| + | |- | ||
| + | !colSpan="3"|'''Физико-механические свойства после отверждения при комнатной температуре''' | ||
| + | |- | ||
| + | | σ<sub>и</sub>, МПа — предел прочности при статическом изгибе | ||
| + | | align=center| 35.0 | ||
| align=center| 44 | | align=center| 44 | ||
|- | |- | ||
| − | | E<sub>и</sub>, | + | | E<sub>и</sub>, ГПа — модуль упругости при статическом изгибе |
| + | | align=center| 0.8 | ||
| align=center| 1.8 | | align=center| 1.8 | ||
|- | |- | ||
| − | | σ<sup>+</sup>, | + | | σ<sup>+</sup>, МПа — предел прочности при растяжении |
| + | | align=center| 23 | ||
| align=center| 18 | | align=center| 18 | ||
|- | |- | ||
| − | | E<sup>+</sup>, | + | | E<sup>+</sup>, ГПа — модуль упругости при растяжении |
| − | | align=center | 2.4 | + | | align=center| 1.1 |
| + | | align=center| 2.4 | ||
| + | |- | ||
| + | !colSpan="3"|'''Параметры отверждения (для 325 нм)''' | ||
| + | |- | ||
| + | |E<sub>c</sub>, мДж/см<sup>2</sup> <ref name="r1" /> | ||
| + | | align=center| 3.7 | ||
| + | | align=center| 2<ref>для рисования подпорок используется алгоритм многократного повторения</ref> | ||
| + | |- | ||
| + | |D<sub>p</sub>, мм <ref name="r1" /> | ||
| + | | align=center| 0.15 | ||
| + | | align=center| 0.12 | ||
|} | |} | ||
| − | + | <references /> | |
== Ссылки == | == Ссылки == | ||
| − | * [http://bd.patent.su/2395000-2395999/pat/servl/servletcbe7.html Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии // Патент | + | * [http://bd.patent.su/2395000-2395999/pat/servl/servletcbe7.html Жидкая фотополимеризующаяся композиция для лазерной стереолитографии // Патент № 2395827] |
[[Категория:Лазерная стереолитография]] | [[Категория:Лазерная стереолитография]] | ||
Версия 15:39, 15 декабря 2017
Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии
Фотополимеризующиеся композиции для лазерной стереолитографии разработки ИПЛИТ РАН предназначены для обеспечения работы установок ЛС-100/250/400, а также для использования в аналогичных системах, использующих технологию лазерной стереолитографии для создания 3D объектов.
| Параметры | Композиция НИЦТЛ-1 | Композиция ИПЛИТ-1 | |
|---|---|---|---|
| Плотность, г/см³ | 1.21 | 1.15 | |
| Вязкость, сП | 260 | 540 | |
| Dp, мм [1] | 0.16 | 0.19 | |
| Ec, мДж/см² [1] | 4.2 | 4.1 | |
| Усадка, об.% | 14 | 7 | |
| Отвержденные образцы | |||
| Ударная вязкость, кДж/см² | 6.3 | 2.6 2.2 [2] | |
| Предел прочности, кГ/см² | 280 | 890 290 [2] | |
| Твердость Нв, МПа | 162 | 140 110 [2] | |
В настоящее время используются следующие фотополимеризующиеся композиции:
- композиция ИПЛИТ-3 на основе олигоэфиракрилатов
- композиция ИПЛИТ-4 на основе уретан-метакрилатов
| Параметры | ИПЛИТ-3 |
ИПЛИТ-4 |
|---|---|---|
| Физико-механические свойства после отверждения при комнатной температуре | ||
| σи, МПа — предел прочности при статическом изгибе | 35.0 | 44 |
| Eи, ГПа — модуль упругости при статическом изгибе | 0.8 | 1.8 |
| σ+, МПа — предел прочности при растяжении | 23 | 18 |
| E+, ГПа — модуль упругости при растяжении | 1.1 | 2.4 |
| Параметры отверждения (для 325 нм) | ||
| Ec, мДж/см2 [1] | 3.7 | 2[3] |
| Dp, мм [1] | 0.15 | 0.12 |
- ↑ 1,0 1,1 1,2 1,3 Параметры уравнения, связывающего толщину отвержденного слоя h с экспозиционной дозой Е: h = Dpln(E/Ec).
- ↑ 2,0 2,1 2,2 Образец подвергали кипячению в воде в течение 1 часа.
- ↑ для рисования подпорок используется алгоритм многократного повторения